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日本限制韩国EUV工艺关键材料 三星电子领先地位将受威胁

时间:2019/7/12 22:16:12    来源:TechWeb        浏览次数: 28

近日,日韩贸易愈演愈烈,日本宣布氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、半导体制造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(Eatching Gas)三种材料出口到韩国时不再给予优惠待遇,而且每次出货时出口商都必须获得许可,拿到许可大约需要90天时间。日本方面对此态度十分强硬,有分析人士指出,由日本独占市场的光罩基底(Mask Blank)也有可能成为下一个牺牲品,三星电子EUV工程可能因此受冲击。

  据《韩联社》报道,日本可能增加的限制品项包含集成电路(IC)、电源管理IC(PMIC)、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。值得注意的是,除EUV制程用的光刻胶没有其他替代品,日本企业在晶圆、光罩基底市场中,市占率非常高。日本的动向将直接影响到三星电子EUV工艺。
  目前,三星正处于和台积电的5nm工艺争霸的关键时刻,这对三星电子来说无疑是一个重大打击。此前三星曾拿到了英伟达GPU7nm芯片的订单,近日英伟达又出来澄清说不是三星独家代工,而是同时使用三星及台积电两家的7nm工艺。

  报道称,接近三星的消息人士表示三星的部分研究计划已经受到了影响,三星为了确保关键的光刻胶供应能够得到保障,现在不得不暂时搁置与EUV光刻工艺相关的芯片研发工作。

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